Tamanho do mercado de PECVD, participação, crescimento e análise da indústria por tipo (equipamento CVD, materiais CVD e serviços de CVD) por aplicação (filme de metal, filme inorgânico e filme orgânico) previsão de 2025 a 2033

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Visão geral do relatório de mercado PECVD

O mercado PECVD, avaliado em US $ 26,37 bilhões em 2024, está previsto para crescer de forma consistente, atingindo US $ 27,48 bilhões em 2025 e, finalmente, atingindo US $ 38,19 bilhões em 2033, em um CAGR constante de 4,2% de 2025 a 2033.

 A pandemia global de Covid-19 tem sido sem precedentes e impressionantes, com o mercado experimentando uma demanda superior ao esperado em todas as regiões em comparação com os níveis pré-pandêmicos. O aumento repentino do CAGR é atribuído ao crescimento do mercado PECVD e a demanda que retorna aos níveis pré-panorâmica quando a pandemia terminar. 

Filmes finos de diferentes materiais podem ser depositados em substratos usando o método PECVD. No setor de semicondutores, é frequentemente empregado para fazer filmes finos de silício ou outros materiais. Os metais e outros materiais também podem ser revestidos usando PECVD. Os íons reativos são produzidos no plasma como parte do processo, e esses íons depositam no substrato.

Também é conhecido como deposição de vapor químico aprimorada por plasma e pode ser realizada sob pressões baixas, médias, altas e muito altas. Para revestimentos de duas áreas, como os em exibições de painel plano, o PECVD de baixa pressão é frequentemente empregado. Para áreas menores, como as encontradas nas bolachas semicondutoras, o PECVD de pressão média é usado. Ainda mais áreas minuciosas, como as encontradas nas membranas microporosas, são tratadas com PECVD de alta pressão. As melhores aplicações de qualidade, como as envolvidas na criação de fibras ópticas, exigem um PECVD de alta pressão.

Impacto covid-19

As restrições de bloqueio e cadeia de suprimentos dificultaram o crescimento do mercado 

A pandemia COVID-19 afetou significativamente o mercado. O surto de pandemia fez com que a economia mundial diminuísse a velocidade, o que impactou negativamente o mercado para esses produtos. Além disso, a cadeia de suprimentos desses produtos foi dificultada pelas medidas de bloqueio adotadas por vários países em todo o mundo, levando a uma escassez de matérias -primas e componentes. Como resultado, esses produtos agora são muito mais caros.

Últimas tendências

A utilização da descarga de barreira dielétrica (DBD) para melhorar a qualidade dos filmes depositados aumenta a expansão do mercado

A utilização da descarga de barreira dielétrica (DBD) para melhorar a qualidade dos filmes depositados é o desenvolvimento mais recente na deposição de vapor químico aprimorada por plasma. Enquanto o DBD acaba de ser investigado, o PECVD tem sido usado há muito tempo para depositar filmes finos de diversos materiais. Isso ocorre porque o DBD permite densidades de plasma muito mais altas do que as técnicas convencionais, melhorando a qualidade do filme final. Além disso, o DBD-PECVD é a melhor opção para situações em que o orçamento térmico é um problema, pois pode ser utilizado para depositar filmes em temperaturas mais baixas do que o PECVD convencional.

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Segmentação de mercado PECVD

Por análise de tipo

O mercado PECVD pode ser segmentado em equipamentos CVD, materiais CVD e serviços de CVD. Entre eles, o equipamento CVD é projetado para experimentar um rápido crescimento até 2032.

Por análise de aplicação

O mercado pode ser dividido com base na aplicação em filmes de metal, filme inorgânico e filme orgânico. Espera -se que o filme de metal tenha a participação de mercado PECVD mais significativa nos próximos anos.

Fatores determinantes

AscendenteDemanda por dispositivos semicondutores e o aumento dos gastos em P&D para impulsionar a expansão do mercado

Devido aos principais fatores de crescimento, como a crescente demanda por dispositivos semicondutores, o uso em expansão da tecnologia PECVD em células solares e aplicações LED e o aumento dos gastos em P&D, o mercado deve se expandir significativamente nos próximos anos. Uma técnica popular para depositar filmes finos em diferentes substratos é o PECVD. A capacidade de depositar filmes em baixas temperaturas, excelente cobertura de etapas e características fortes do filme são alguns dos principais benefícios da PECVD. Prevê -se que esses elementos impulsionem a expansão do mercado durante esse período. Um dos principais fatores que aumentam a expansão do mercado é a crescente demanda por dispositivos semicondutores. Computadores, telefones celulares e eletrônicos de consumo são apenas alguns aparelhos eletrônicos que utilizam a tecnologia de semicondutores. O setor eletrônico está se expandindo rapidamente, aumentando a demanda por dispositivos semicondutores, que prevê que impulsionar a expansão do mercado.

Expandindo o uso da tecnologia PECVD em células solares e aplicações LEDAlimenta o crescimento do mercado

Outro fator significativo de expansão do mercado de alimentação é o uso em expansão da tecnologia PECVD em aplicações de células LED e solares. Como resultado de preocupações com o esgotamento das fontes de combustível fóssil e as dificuldades ambientais, as células solares estão sendo empregadas como uma fonte de energia alternativa cada vez mais. Nas bolachas de silício, que são posteriormente utilizadas em células solares, as camadas de dióxido de silício (SiO2) podem ser depositadas por PECVD. Semelhante à forma como eles são utilizados em muitas outras aplicações, os LEDs são amplamente utilizados em eletrônicos de iluminação, automotivo e consumidor.

Fatores de restrição

O alto custo do equipamento e a falta de trabalhos qualificados impedem o crescimento do mercado

O mercado tem restrições, o que é fascinante por várias razões. O alto custo do equipamento é um dos principais impedimentos. A ausência de funcionários qualificados é outra questão. Além disso, aumentar a produção apresenta dificuldades.

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Insights regionais do mercado PECVD

EUA para dominar o mercado devido à crescente demanda por dispositivos semicondutores e aos crescentes gastos em P&D

Entre 2022 e 2032, o mercado de PECVD será dominado por fatores dos EUA que impulsionam o crescimento do mercado nessa região, incluem a crescente demanda por dispositivos semicondutores e o aumento dos gastos em pesquisa e desenvolvimento.

Além disso, prevê -se que o mercado experimente o crescimento mais rápido nos países europeus e asiáticos (Índia, China, Japão e Sudeste Asiático). O uso em expansão da tecnologia PECVD em células solares e aplicações LED alimenta a expansão do mercado.

Principais participantes do setor

Os principais atores se concentram nas parcerias para obter uma vantagem competitiva

Os participantes proeminentes do mercado estão fazendo esforços colaborativos ao fazer parceria com outras empresas para ficar à frente da concorrência. Muitas empresas também estão investindo em lançamentos de novos produtos para expandir seu portfólio de produtos. Fusões e aquisições também estão entre as principais estratégias usadas pelos jogadores para expandir seus portfólios de produtos.

Lista das principais empresas PECVD

• Tempress Systems (Netherlands)
• Gebr.Schmid (Germany)
• JUSUNG (South Korea)
• ProTemp (U.S.)
• ASMI (Netherlands)
• Roth-Rau (Germany)
• MVSystems (U.S.)
• SVCS (U.S.)
• Jonas & Redmann (Germany)
• Centrotherm (Germany)
• CETC-48 (China)
• Singulus (Germany)
• North Microelectronics (U.S.)
• SFA (U.K.)
• Shimadzu (Japan)
• LPT (Croatia)
• Sevenstar (U.S.)

Cobertura do relatório

Esta pesquisa perfina um relatório com extensos estudos que levam em descrição as empresas existentes no mercado que afetam o período de previsão. Com estudos detalhados realizados, também oferece uma análise abrangente, inspecionando fatores como segmentação, oportunidades, desenvolvimentos industriais, tendências, crescimento, tamanho, compartilhamento e restrições. Essa análise está sujeita a alteração se os principais participantes e a provável análise da dinâmica do mercado mudarem.