CMPスラリー市場規模、シェア、成長、および業界分析（アルミナスラリー、コロイダルシリカスラリー、セリアスラリー）、用途別（シリコン（Si）ウェーハ、SiCウェーハ、光学基板、ディスクドライブ部品、その他）、タングステン、銅バルク、銅バリー、その他）および2035年までの地域予測

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CMPスラリー市場の概要

世界のCMPスラリー市場は、2026年に24億4,000万米ドルの推定値で始まり、最終的に2035年までに37億5,000万米ドルに達すると予測されています。この成長は、2026年から2035年までの6.2%の安定したCAGRを反映しています。

CMPスラリーはChemical Mechanical Polishingスラリーの略です。これは、製造プロセスにおいて半導体やその他の材料の表面を研磨して平坦化するために使用される研磨粒子、化学物質、水の混合物です。スラリーは CMP プロセスにおいて重要な成分であり、表面の凹凸を取り除き、研磨対象の材料の表面を滑らかにするのに役立ちます。スラリー中の研磨粒子は通常、アルミナやシリカなどの材料でできており、化学物質はスラリーの pH を制御し、研磨性能を高めるのに役立ちます。 CMP スラリーの組成は、研磨される材料の特定の要件に基づいてカスタマイズできるため、半導体産業において多用途かつ不可欠な材料となっています。

高性能半導体や電子デバイスの需要の高まりにより、CMPスラリーの市場規模は急速に成長しています。半導体産業が進歩し続けるにつれて、より小さく、より高速で、より効率的なデバイスに対する需要が高まっており、CMP スラリーはこの進歩を可能にする上で重要な役割を果たしています。製造プロセスでの CMP スラリーの使用は、次世代技術の開発に必要な半導体コンポーネントの製造における精度と一貫性の向上に役立ちます。さらに、スマートフォン、タブレット、ラップトップなどの電子デバイスの需要の高まりがCMPスラリー市場の成長を促進しています。これらのデバイスでは、速度、機能性、利便性に対する消費者の需要を満たすためにより高度な半導体が必要となるためです。

新型コロナウイルス感染症（COVID-19）の影響:パンデミックはCMPスラリー市場の需要と供給に好影響と悪影響の両方をもたらした

新型コロナウイルス感染症（COVID-19）の世界的なパンデミックは前例のない驚異的なものであり、CMPスラリー市場はパンデミック前のレベルと比較して、すべての地域で予想を上回る需要を経験しています。 CAGRの突然の上昇は、パンデミックが終息すると市場の成長と需要がパンデミック前のレベルに戻ることに起因しています。

新型コロナウイルス感染症（COVID-19）のパンデミックは、CMP スラリー市場にさまざまな影響を及ぼしました。一方で、パンデミックは世界的なサプライチェーンの混乱を引き起こし、製造施設の一時的な停止とCMPスラリーの需要の減少につながりました。さらに、ウイルスの蔓延を抑制するために課された旅行制限や社会的距離措置により、原材料の供給が中断され、最終製品の納品が遅れました。その一方で、人々がリモートワーク、エンターテイメント、コミュニケーションにおいてテクノロジーに大きく依存するようになり、パンデミックは半導体産業の成長を加速させました。これにより、高性能半導体の需要が高まり、CMPスラリーの需要も高まりました。全体として、パンデミックは CMP スラリー市場にさまざまな影響を及ぼし、需要と供給にプラスとマイナスの両方の影響を及ぼしました。

最新のトレンド

高性能半導体デバイスに対する需要の高まりを満たすために、斬新で最先端の製品を開発することが市場のトレンドの 1 つとなっています。

CMP スラリー市場におけるトレンドの 1 つは、高性能半導体デバイスに対する需要の高まりに応えるための、新しく先進的な製品の開発です。企業は、III-V族半導体、3D NAND、FinFETなどの先端材料の研磨と平坦化により効果的なスラリー配合物を作成するための研究開発に投資しています。さらに、CMP スラリーの製造では、より環境に優しい材料とプロセスを使用する傾向があります。 Cabot Microelectronics Corporation、Dow Electronic Materials、Fujimi Incorporated などの市場の主要企業は、市場での競争力を維持するために新製品や技術を投入しています。たとえば、Cabot Microelectronics Corporation は最近、先進的なメモリデバイス用の新しい CMP スラリーを発売し、Fujimi Incorporated は先進的なロジックデバイス向けの新しい高性能 CMP スラリーシリーズを発表しました。 

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CMPスラリー市場セグメンテーション

• 種類別

CMP スラリー市場に応じて、アルミナスラリー、コロイダル シリカ スラリー、セリア スラリーの種類が提供されます。アルミナスラリータイプは2028年まで最大の市場シェアを獲得。

• 用途別

市場は用途に応じてシリコン（Si）ウェーハ、SiCウェーハ、光学基板、ディスクドライブ部品、その他に分かれています。世界のCMPスラリー市場では、シリコン（Si）などのカバーセグメントのプレーヤーが2022年から2028年にかけて市場シェアを独占すると予想されます。

推進要因

ハイパフォーマンス コンピューティング (HPC) アプリケーションに対するニーズの高まりが、CMP スラリー市場の拡大を促進する 1 つの要素

CMP スラリー市場の成長を促進する要因の 1 つは、ハイ パフォーマンス コンピューティング (HPC) アプリケーションの需要の増加です。 HPC アプリケーションには、大量のデータを処理し、複雑な計算を迅速かつ効率的に実行できる半導体デバイスが必要です。 CMP スラリーは、最適なデバイス性能を達成するために不可欠なデバイス層の正確かつ一貫した平坦化を可能にするため、これらの高度な半導体コンポーネントの製造において重要な役割を果たします。ヘルスケア、金融、防衛などの業界における HPC アプリケーションの需要の増加に伴い、高性能半導体デバイスの需要は引き続き成長すると予想されており、それが CMP スラリーの需要を促進すると考えられます。この傾向は、CMP スラリー メーカーにとって、HPC 市場の需要を満たすことができる新しいより高度な配合物を開発する機会を生み出すと予想されます。

5Gテクノロジーに対するニーズの高まりは、CMPスラリー市場の拡大を促進するもう1つの要素です

CMPスラリー市場の成長のもう1つの推進要因は、5Gテクノロジーに対する需要の増加です。 5Gネットワ​​ークの展開により、高速データ転送と処理をサポートできる先進的な半導体デバイスの需要が高まっています。 CMP スラリーは、最適な性能を確保するためにデバイスの表面を平坦化および研磨するために使用されるため、これらの先進的な半導体デバイスの製造において重要です。 5G技術の採用拡大が見込まれるため、先進的な半導体デバイスの需要が増加し、CMPスラリーの需要が高まると予想されます。この傾向により、CMP スラリーメーカーは、研磨速度の向上、選択性の向上、表面仕上げの向上など、5G 市場の需要を満たすことができる新しくて高度な配合物を開発する機会が生まれると予想されます。

抑制要因

CMP スラリーの使用と廃棄に関連する環境問題の増大が、CMP スラリー市場の制約となっています

CMP スラリー市場の成長に影響を与える抑制要因の 1 つは、CMP スラリーの使用と廃棄に関連する環境への懸念の増大です。 CMP スラリーには研磨粒子や化学薬品が含まれており、適切に扱わないと環境に有害となる可能性があります。使用済みスラリーの処分も、環境に放出される前に有害物質を除去するための適切な処理が必要なため、困難な場合があります。さらに、CMP スラリーの製造はエネルギーを大量に消費する可能性があり、温室効果ガスの排出につながる可能性があります。環境問題への懸念が高まるにつれ、より環境に優しいCMPスラリーの使用など、より持続可能な製造手法を採用するよう半導体業界に求める圧力が高まっています。この傾向により、CMP スラリーメーカーは、環境への影響を最小限に抑えながら業界の性能要件を満たすことができる、より持続可能な配合を開発するという課題が生じることが予想されます。

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CMPスラリー市場の地域的洞察

アジア太平洋地域はCMPスラリー市場の主要地域です。この地域には、サムスン、TSMC、SK ハイニックスなどの世界最大の半導体製造企業がいくつかあります。アジア太平洋地域、特に中国、台湾、韓国などの国々における半導体産業の成長は、この地域のCMPスラリー市場の主要な推進力となっています。さらに、ハイパフォーマンス コンピューティング、5G テクノロジー、その他の高度なアプリケーションに対する需要の高まりにより、この地域での CMP スラリーの需要が高まっています。アジア太平洋地域は、半導体産業の成長と高性能半導体デバイスに依存する高度なアプリケーションへの需要の増加により、引き続きCMPスラリー市場シェアを独占すると予想されています。 

北米はCMPスラリー市場シェアで第2位の地域です。この地域には、インテル、マイクロン・テクノロジー、テキサス・インスツルメンツなどの大手半導体企業が大きな存在感を示しています。ヘルスケア、自動車、航空宇宙など、さまざまな業界におけるハイパフォーマンス コンピューティング アプリケーションの需要の高まりにより、先進的な半導体デバイスの需要が増加し、北米の CMP スラリー市場の成長を推進しています。さらに、この地域には研究開発のためのインフラが確立されており、より高度な CMP スラリーの開発につながっています。北米市場は、さまざまな業界における高度な半導体デバイスの需要の増加と、より高度なCMPスラリーの開発により、成長し続けると予想されています。

主要な業界プレーヤー

主要企業は競争上の優位性を得るためにパートナーシップに注力

著名な市場関係者は、競合他社に先んじるために、他の企業と提携して協力的な取り組みを行っています。多くの企業は、製品ポートフォリオを拡大するために新製品の発売にも投資しています。合併と買収も、プレーヤーが製品ポートフォリオを拡大するために使用する重要な戦略の 1 つです。

トップCMPスラリー会社のリスト

• Entegris (CMC Materials)
• Showa Denko
• FUJIMI INCORPORATED
• DuPont
• Merck (Versum Materials)
• Fujifilm
•  AGC
• KC Tech
• JSR Corporation
• Anjimirco Shanghai
• Soulbrain
• Saint-Gobain
• Ace Nanochem
• Dongjin Semichem
• Ferro (UWiZ Technology)
• WEC Group
• SKC
• Shanghai Xinanna Electronic Technology
• Hubei Dinglong

レポートの対象範囲

この調査は、予測期間に影響を与える市場に存在する企業を説明する広範な調査を含むレポートの概要を示しています。詳細な調査が行われ、セグメンテーション、機会、産業の発展、傾向、成長、規模、シェア、制約などの要因を検査することにより、包括的な分析も提供されます。この分析は、主要企業および市場力学の予想分析が変更された場合に変更される可能性があります。