ドライフィルムフォトレジスト市場規模、シェア、成長、世界の産業分析、タイプ別（ポジ型ドライフィルムフォトレジスト、ネガ型ドライフィルムフォトレジスト）、アプリケーション別（PCB、半導体パッケージング、その他）、2026年から2035年までの地域的洞察と予測

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ドライフィルムフォトレジスト市場の概要

世界のドライフィルムフォトレジスト市場規模は、2026年に10億7,000万米ドルと推定され、2026年から2035年までの予測期間中に3.4%のCAGRで2035年までに14億5,000万米ドルに達すると予想されています。

ドライフィルムフォトレジストは、フォトリソグラフィーや写真製版などのさまざまなプロセスで輪郭のある表面を作成するために使用される感光性物質です。エレクトロニクス分野では、この手順は非常に重要です。プリント基板は、回路を機械的にサポートし、部品に電気的に接続するため、良いアイデアです。通常、コンポーネントは写真製版法を使用して PCB にはんだ付けされます。基板を感光性有機物質でコーティングすることは、フォトレジストプロセスの最初のステップです。単純なものでも複雑なものでも、あらゆる種類の電子機器がこれらの回路を利用します。 

ドライフィルムフォトレジストは、画像転写プロセスで使用される重要なコンポーネントです。リードフレーム、IC基板、ケミカルミリング、ICパッケージング、プリント基板などのさまざまな業界で広く採用されています。ドライフィルムフォトレジスト市場の成長は、製品の下流需要と関連しています。市場ではナノテクノロジーが急速に導入されており、NEMS および MEMS デバイスの着実な普及に貢献すると期待されています。 NEMS は、ナノ電気機械システムの略で、機械的機能と電気的機能をナノスケールで統合するために使用されるデバイスです。 MEMS はマイクロ電気化学システムの略です。これは、電気コンポーネントと機械コンポーネントを組み合わせた小さな統合システムまたはデバイスを作成するために使用されるプロセス技術です。 

新型コロナウイルス感染症の影響: 操業停止が成長率に影響 

新型コロナウイルス感染症（COVID-19）の世界的なパンデミックは前例のない驚異的なものであり、ドライフィルムフォトレジスト市場ではパンデミック前のレベルと比較して、すべての地域で予想を上回る需要が発生しています。 CAGRの急増は、ドライフィルムフォトレジスト市場の成長と、パンデミックが終息した後に需要がパンデミック前のレベルに戻ったことに起因しています。

パンデミック中に自動車やその他の部門を含む産業操業が停止したことは、半導体部門に重大な悪影響を及ぼした。エレクトロニクス産業と半導体産業は、同時に家庭用電化製品やデバイスの需要の減少と世界的な一人当たり支出の減少により深刻な影響を受けました。サプライチェーンの寸断により需要と供給のギャップが拡大し、原材料の価格も上昇した。さらに、輸出の伸びも急激に鈍化すると予想される。企業や業界は感染拡大を阻止し、速やかに正常な状態に戻すことができます。下半期には回復が見込まれる。市場はパンデミックによる損失からさらに回復しつつある。 

最新のトレンド

エレクトロニクス業界での製品採用の増加による成長促進

電子業界からの需要の高まりにより、この製品の需要は一貫して増加しています。さまざまな家電製品での製品の使用により、ドライフィルムフォトレジスト市場の成長が促進される可能性があります。世界中でエレクトロニクスに対する需要が高まり、市場にチャンスが生まれています。さらに、エレクトロニクス産業におけるフォトリソグラフィーの着実な採用により、複雑な配線が可能になり、予測期間におけるドライフィルムフォトレジスト市場の成長を促進すると予測されています。 

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ドライフィルムフォトレジスト市場セグメンテーション

• タイプ別分析

タイプによって、市場はポジ型ドライフィルムフォトレジスト、ネガ型ドライフィルムフォトレジストに分類されます。

• アプリケーション分析による

アプリケーションに基づいて、市場はPCB、半導体パッケージング、その他に分類されます。

推進要因

ナノテクノロジーの受け入れによる急速な成長

市場では、さまざまな業界でドライフィルムフォトレジストが急速に採用されています。 MEMS および NEMS デバイスへの移行は、ナノテクノロジーが市場で大きく受け入れられたことによって促進されています。ナノデバイスの使用は、小型化、軽量化、消費電力の少ない設計、および製造コストの削減の結果として、世界的に拡大しています。数多くの技術開発により、このようなデバイスの商品化により、フォトレジストおよびフォトレジスト付属品の市場の可能性が増大しました。たとえば、Intel は 28nm から 20nm ベースの新しいテクノロジーに急速に移行しています。これにより、半導体分野におけるフォトレジストおよび関連製品の需要が増加すると予想されます。 

成長を促進する材料技術の進歩 

先進技術の着実な導入により、市場は急速に成長しています。この新技術は、3D構造、磁性体、絶縁体、金属、磁性材料など、さまざまな用途に応用可能です。電子機器や半導体デバイスの製造工程でも使用されています。市場はMEMSからバイオNEMS、MEMSへと移行しつつあります。この要因は、フォトレジスト補助材料やフォトレジストを使用して、最先端の材料を即興でパターン化することを規制する可能性があります。これらの要因は、世界市場の成長を促進すると予測されています。 

抑制要因

E-Wasteの発生量増加により市場の成長が制限される

電子機器廃棄物の発生率の増加により、ドライフィルムフォトレジストの市場拡大が抑制されることが予想されます。技術革新の導入は、以前に製造された製品の需要の減少につながり、その結果、追加の電子廃棄物が生成されることが予想されます。これらの要因により、市場の成長が止まる可能性があります。電子廃棄物の生成量が増加することで、人々の環境に対する意識が高まり、市場の成長に影響を与えると予測されています。 

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ドライフィルムフォトレジスト市場の地域的洞察

アジア太平洋地域が製造業の存在感で市場を支配

アジア太平洋地域は、台湾と中国に最大の製造業が存在するため、ドライフィルムフォトレジスト市場シェアで大きな貢献をすると予想されています。さらに、韓国、日本、インドなどのアジア諸国からの需要の高まりにより、地域市場が高まる可能性があります。  

北米でも、技術の進歩とエレクトロニクス分野の着実な進歩により、ドライフィルムフォトレジスト市場シェアが大幅に拡大すると予想されています。 

ヨーロッパは、ドイツからの製品需要の高まりにより、大幅な成長を示すと予測されています。イタリア、そしてフランス。 

業界の主要プレーヤー

企業は長期的な成長戦略を重視すべき

市場は、地域産業や世界規模の産業など、さまざまな規模の産業に細分化されています。市場の収益とシェアは、製品の研究開発への継続的な投資によって左右されると考えられます。市場で着実な成長を遂げるために、技術の進歩が取り入れられています。両社は製品ポートフォリオを強化するために合併・買収に注力している。多くの企業も地域市場シェアを獲得するために新製品を発売しました。地域市場を獲得することは、プレーヤーが世界市場をさらに獲得するのに役立ちます。大手企業は長期的な成長を実現するために、有機的および無機的な成長戦略を採用しています。 

ドライフィルムフォトレジストのトップ企業のリスト

• 旭化成（日本）
• エターナルマテリアルズ（中国）
• 日立化成（日本）
• デュポン社（米国）
• 長春グループ（中国）
• コーロン工業（韓国）

産業の発展

• February 2020- DuPont launched new products to the Riston and Pyralux brands to address the various demands from advanced electronics manufacturers. The products include photo resistance of dry film for multi-layering and pattern plating on the boards.  

レポートの範囲

このレポートは、成長率、新型コロナウイルス感染症の影響、市場推進要因などのさまざまな要因を含む市場の包括的な概要を提供します。市場の定性的および定量的洞察がレポートに示されています。このレポートは、市場の詳細な分析と、市場の急成長または成長の遅延が予想される要因も提供します。レポートではさまざまな市場洞察がカバーされています。ポーターのファイブフォース分析とSWOT分析は、市場の洞察を得るために完了します。レポートには、主要な市場プレーヤーに関する情報も含まれています。業界の成長を促進するトレンドもレポートに示されています。