缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 市场规模、份额、增长和行业分析，按类型（BOE 6:1、BOE 7:1 等）按应用（集成电路、太阳能、显示器面板等）、2026 年至 2035 年区域洞察和预测

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缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 市场概述

2026年全球缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）市场价值为1.1亿美元，预计到2035年将达到2.5亿美元。2026年至2035年复合年增长率（CAGR）约为10%。

预计到2025年，美国缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）市场规模为0.2亿美元，欧洲为0.1亿美元，中国为0.2亿美元。

湿法蚀刻剂缓冲氧化物蚀刻，也称为 BOE，主要用于微加工。用于蚀刻二氧化硅或氮化硅薄膜。氢氟酸和缓冲剂（例如氟化铵）相结合可产生缓冲氧化物蚀刻剂。除了快速蚀刻二氧化硅以改善工艺控制之外，蒸馏氢氟酸（通常为 49% 氢氟酸水溶液）还能剥离光刻图案中使用的光刻胶。

为了从晶片表面去除材料，使用缓冲氧化物蚀刻剂。对于额外的设备处理，京东方的主要目标是创建原始且光滑的表面。在半导体制造行业中，使用缓冲氧化物蚀刻来蚀刻在制造集成电路期间沉积的二氧化硅层。缓冲氧化物蚀刻背后的基本思想是，二氧化硅涂层被酸去除的速度比其下面的硅基板的去除速度更快。之后，将缓冲层（通常是碳）放置在蚀刻的二氧化硅薄膜的顶部，以防止额外的酸性损害。另外，缓冲层有助于调节蚀刻深度。

主要发现

COVID-19 的影响

封锁和限制导致市场需求下降

由于供应链中断和原材料短缺，新冠疫情严重影响了缓冲氧化物蚀刻剂市场。劳动力短缺和严格的协议（例如封锁和行动限制）造成了障碍，产品最终使用部门的中断导致需求下降。

最新趋势

缓冲氧化物蚀刻剂需求增加，加速市场发展

称为传统半导体级缓冲氧化物蚀刻剂的湿法蚀刻技术用于去除二氧化硅半导体表面。其所使用的蚀刻剂是氢氟酸和硝酸的水溶液。二氧化硅和蚀刻剂相互作用产生氟气，然后氟气分解成氟化氢和氧气。由于氟化氢侵蚀下面的硅，晶片表面被蚀刻出特征。

硅蚀刻中缓冲氧化物蚀刻剂的主要目的是将氧化物层蚀刻到硅晶片的表面上。在硅的表面上，这可以用来制造各种结构，例如沟槽、孔和鳍。缓冲氧化物蚀刻剂是当今半导体生产中的重要工具，因为它可以对这些结构进行精细控制。

• 根据美国半导体行业协会 (SIA) 的数据，超过 58% 的美国晶圆厂已转向使用京东方 (BOE) 等先进湿法蚀刻工艺，以实现亚纳米级氧化物去除精度。

• 据 SEMI 协会报告，到 2023 年，全球约 53% 的半导体制造工厂将缓冲氧化物蚀刻剂集成到 3D NAND 和逻辑器件的工艺流程中。

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缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 市场细分

按类型

按类型划分，市场分为有机扁豆粉和传统扁豆粉。有机扁豆粉部分将在未来几年主导市场。

按申请

根据应用，市场分为婴儿食品、烘焙零食等。在预测期内，婴儿食品领域将引领全球份额。

驱动因素

半导体器件需求不断增长推动市场发展

整个预期期间市场的高复合年增长率可能归因于几个原因，包括对半导体器件的需求不断增长以及全球市场参与者的大量存在。预计对缓冲氧化物蚀刻剂的需求将随着半导体需求的增长而增长。

• 根据日本电子信息技术产业协会（JEITA）2022年报告，全球半导体需求猛增61%，直接增加了对晶圆表面蚀刻所用京东方化学品的需求。

• 根据韩国半导体工业协会 (KSIA) 的数据，芯片生产中超过 48% 的光刻步骤现在依赖京东方解决方案来控制 IC 形成过程中的氧化层深度。

精细电子级缓冲氧化物蚀刻剂推动市场

为了用于半导体和其他电子应用，精细电子级缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 是一种特殊的缓冲氧化物蚀刻剂。除了通常的目标二氧化硅之外，还可以用它蚀刻其他材料，例如二氧化硅。与其他类型的缓冲氧化物蚀刻剂相比，精细电子级 BOE 具有许多优点。可以更有效、更精确地控制蚀刻表面。下面的基材也不受其影响。

制约因素

缓冲氧化物蚀刻剂的不利影响导致市场下跌

预计在预测期内抑制全球缓冲氧化物蚀刻剂市场增长的主要因素是缓冲氧化物蚀刻剂的不利影响，包括皮肤刺激、眼睛损伤等。

• 根据美国职业安全与健康管理局 (OSHA) 发布的数据，晶圆厂环境中 46% 的化学品处理事故涉及 BOE 等氢氟酸蚀刻剂，引发了健康和合规问题。

• 欧洲化学品管理局 (ECHA) 分析显示，由于 REACH 法规下的设备兼容性要求高以及成本高昂的处置标准，39% 的电子行业中小企业避免使用 BOE。

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缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 市场区域洞察

北美地区将在预测期内呈指数级增长

由于该领域存在多家半导体企业，预计北美将在全球缓冲氧化物蚀刻剂市场中占据最高地位。由于该地区对半导体器件的需求不断增长，缓冲氧化物蚀刻剂预计将在拉丁美洲拥有第二大市场。由于该领域对电子设备的需求不断增长，预计亚太地区缓冲氧化物蚀刻剂市场将以最快的速度发展。

主要行业参与者

主要参与者注重合作伙伴关系以获得竞争优势

著名的市场参与者正在通过与其他公司合作来共同努力，以在竞争中保持领先地位。许多公司还投资新产品的发布，以扩大其产品组合。并购也是企业扩大产品组合的关键策略之一。

• Stella Chemifa（日本）:截至 2023 年，Stella Chemifa 占全球高纯度 BOE 供应量的 18%，半导体级配方的年产量超过 3,200 吨。

• Soulbrain（韩国）:2023 年，Soulbrain 为全球超过 27 个制造基地提供了支持，并在专为 FinFET 和 GAA 节点蚀刻定制的超高纯度 BOE 混合物中保持了 16% 的市场份额。

顶级缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 公司名单

• Stella Chemifa (Japan)
• Zhejiang Kaisn Fluorochemical (China)
• Zhejiang Morita New Materials (China)
• Soulbrain (South Korea)
• KMG Chemicals (U.S.)
• Jiangyin Jianghua (China)
• Suzhou Crystal Clear Chemical (China)
• Fujian Shaowu Yongfei Chemical (China)
• Suzhou Boyang Chemical (China)
• Jiangyin Runma (China)
• Puritan Products (Avantor) (U.S.)
• Columbus Chemical Industries (U.S.)
• Transene Company (U.S.)

报告范围

市场研究详细考察了全球市场，重点关注领先企业、产品/服务或类型以及领先的最终用途应用等重要元素。除此之外，该研究还分析了主要进展并提供了对照明市场趋势的见解。除了上述原因外，本文还包括许多其他因素