EUV面膜空白的市场规模，份额，增长和行业分析，按类型（I型，II型和其他类型），按应用[半导体，IC（集成电路）等]，区域见解和预测到2032年

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EUV面具空白市场报告概述

2024年，全球EUV面具空白的市场规模为22.4亿美元，到2032年，市场预计将触及83亿美元，在预测期内的复合年增长率为16.5％。

极端紫外线光刻（通常称为EUV或EUVL）是一种芯片印刷和制造技术，它采用了多种极端紫外线（EUV）波长，其2％FWHM带宽约为13.5 nm。作为面膜毛坯，在石英或苏打石玻璃基板上形成了铬或钼硅质的薄膜。它们还涂有对电子或激光束敏感的光敏抗性材料，并抵抗蚀刻以产生电路模式。 EUV面膜空白是低热膨胀玻璃基板，其各种光学涂层膜都涂在其表面上。在底物上，EUV面膜空白由40至50层的硅和钼层组成。

COVID-19影响： 大流行功能失调的市场增长

2019年12月，2019年12月，Covid-19疾病开始在全球180多个国家蔓延，世界卫生组织宣布这是健康危机。 Covid-19通过中断手机和屏幕制造的供应链，并由于某些城市的关闭而在全球范围内降低智能手机销售，对市场产生了不利影响。随着世界各地的政府收紧控制措施，预计停工速度放缓了经济活动，预计在不久的将来会产生更大的影响。因为长时间的锁定，行业被迫暂时关闭，从而导致货物的制造和发货延迟。

最新趋势

"产品创新以吸引市场份额"

根据ITRS 2001光刻路线图，正在开发极端紫外线（EUV）光刻，以替换45NM技术节点上的157nm印刷术的商业IC制造。为了满足未来的商业需求，EUV面具会带来许多生产和技术障碍。尽管目前只有Hoya和AGC具有商业交付能力，但我们根据该行业的当前技术状态包括了研究样本或低量商品。

euv面具空白市场细分

• 按类型分析

根据类型，EUV面膜空白市场细分为I型，II型和其他类型。

零件类型I是类型段的领先部分。

• 通过应用分析

根据应用程序，EUV面膜空白市场被细分为半导体，IC（集成电路）等。

半导体部分是应用程序段的主要部分。

驱动因素

"IC制造和消费的增加，以扩大市场份额"

EUV面膜空白多年来一直在有限的产量中，并且是EUV光掩膜中的关键组成部分。制造口罩的过程始于创建面膜空白或底物的过程。在面具空白制造商创建空白后，将其运输到摄影制造商，该制造商在基板上处理面罩。要产生芯片，必须使用光掩膜。芯片制造商在设计 - 制造阶段创建一个IC，然后将其从文件格式翻译并作为掩模创建。蒙版是集成电路设计的主模板。

Extreme Ultaviolet光刻（EUVL）是一种在45 nm技术节点及以下的IC制造的尖端，下一代光刻技术。多层结构面具和反射光学在EUV技术中至关重要。图案吸收器是EUV面膜功能，可在曝光过程中发展IC特征。

"多层电影和应用材料的兴趣不断提高，以提升市场份额"

当前，EUV面罩的生产要求由两个半标准定义：一个用于基板，另一个用于（多层）ML膜。 EUV面膜空白的商业供应商正在研究ML和沉积程序，用于反射性和吸收膜。为了满足生产要求，必须满足各种性能标准。随着极端紫外线（EUV）光刻的市场，EUV面具空白的供应商正在增长其产出。此外，应用材料计划进入市场。

限制因素

"因此，功能的某些问题和限制市场增长的高昂成本"

尽管可以从当前的光面膜扩展一些EUV面膜生产程序，但由于更改为所有反映具有标准光掩模的图案性特征的所有反映多层镜系统的变化，因此发生了一些其他挑战。 13.4-13.5 nm波长的EUV光刻需要出色的多层性能，包括峰值反射率，与光学系统的波长匹配以及非常低的缺陷水平。为了满足EUV面膜需求，用作多层反射器的底物的低热膨胀材料（LTEM）需要苛刻的性能水平，例如热膨胀系数（CTE），平坦度和粗糙度。绩效增长了几个数量级。其他动力在这里起作用。低阻力的EUV面膜空白和高成本的市场潜在供应短缺。 euv面膜空白具有更紧密的规格，费用超过$ 100,000。因此，在整个过程中突出了这些问题，并妨碍了EUV面具空白市场的增长。

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   索取免费样品 要对主要地理市场进行分析

EUV面具空白市场区域见解

"亚太地区将领导主要参与者和多模式生产"

日本和中国等重要国家的经济正在扩大，这正在增加消费者的可支配收入。因此，我们正在朝着拥抱高端技术设备推动该地区市场市场的高端技术设备的方向发展。此外，中国企业正在迅速努力建立大量生产设施来生产大规模空白。 EUV面膜空白的两个领先制造商AGC和Hoya的这些关键组件的能力提高了EUV摄影剂。光掩膜的底物是面膜空白。同时，应用材料在最近的许多事件中都对其努力和潜在进入EUV面具空白市场的演讲进行了演讲。 Applied正在研究下一代EUV空白。因此，需求将推动EUV面具空白市场在该地区的扩展。

关键行业参与者

"杰出的参与者为市场增长做出贡献"

该报告通过新的发明和SWOT分析涵盖了有关进步前景的信息。市场要素的情况以及未来几年的市场发展领域。

顶级euv面具空白公司的列表

• AGC Inc (Japan)
• Hoya (Japan)
• S&S Tech (South Korea)
• Applied Materials (U.S.A)
• Photronics Inc (U.K).

报告覆盖范围

该报告研究了影响需求和供应方面的要素，并估计了预测期内动态的市场力量。该报告提供了驱动因素，约束和未来趋势。在评估了政府，财务和技术市场因素之后，该报告为地区提供了详尽的害虫和SWOT分析。如果主要参与者和市场动态的可能分析可能会发生变化，则该研究会发生变化。该信息是对提到的因素的大致估计，在彻底研究之后考虑了。