激光掩模刻录机市场规模、份额和行业分析,按类型(900mm²/min 以上、300 ~ 900mm²/min、300mm²/min 以下)、按应用(IC、PCB 和平板显示器)、2026 年至 2035 年区域洞察和预测

最近更新:19 January 2026
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趋势洞察

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激光掩模刻录机市场概述

全球激光掩模刻录机市场预计从 2026 年的 7.1 亿美元开始,到 2035 年最终达到 15.3 亿美元。这一增长反映出 2026 年至 2035 年复合年增长率稳定在 8.9%。

我需要完整的数据表、细分市场的详细划分以及竞争格局,以便进行详细的区域分析和收入估算。

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该机器或设备确实是一种无掩模光刻机械或系统,采用激光源来创建光掩模。与基于电子束 (e-beam) 的掩模刻录机相比,掩模制造商更愿意在可行的情况下使用速度更快的基于激光的系统,其中包括现代设备中除了最重要的掩模之外的所有掩模。激光刻录机也常用于在先前图案化的掩模上覆盖二级形状,这是创建相移掩模 (PSM) 所必需的,从而改善晶圆光刻的程序窗口。

COVID-19 的影响

供应和封锁限制导致市场上涨

全球 COVID-19 大流行是前所未有的、令人震惊的,与大流行前的水平相比,所有地区的激光掩模刻录机市场的需求都高于预期。复合年增长率的突然上升归因于市场的增长以及疫情结束后需求恢复到疫情前的水平。

冠状病毒对许多企业的增长产生了负面影响,包括机械设备行业。全球各地政府实行停工,导致企业主看到 2020 年第二季度和第三季度的机器需​​求下降。

随着需求的减少,制造商或实业家向机械设备行业和政府做出了让步,以增加2020年第三和第四季度的产品销量。疫情后迅速采取的举措和许多进步,为市场上的机械制造商扫清了道路,预计在预计的时间内,对机械或设备的需求增长将达到更高水平。

最新趋势 

智能创新采用率上升刺激市场发展

消费品、汽车、物联网、医疗设备,有时甚至是工业制造机械和设备等一切事物都变得更加智能的趋势,正在继续推动中低端半导体的新需求和要求。据行业预测,这些领域将占行业所有创新增长的90%以上,而不是计算机和智能手机等传统来源。

 

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激光掩模刻录机市场细分

按类型

根据类型;市场分为900mm²/min以上、300~900mm²/min、300mm²/min以下

900mm²/min以上类型是该类型细分市场的主导部分。

按申请

基于应用程序;市场分为IC、PCB、平板显示器

IC是应用领域的主导部分。

因此,在预计的时间内,激光掩模刻录机的市场份额将大幅增长。

驱动因素

快速变化的半导体行业有助于市场扩张

半导体行业的快速变化导致大量投资集中在保持领先地位,而不是提高更成熟的节点制造的效率。尽管如此,只要能够满足技术要求,激光光掩模就会受到优先考虑,因为其效率高且掩模成本较低。  在半导体行业每年生产的超过 600,000 个光掩模中,70-75% 是使用基于激光的掩模刻录机或激光掩模刻录机制成的,这说明了这些对于半导体生产(尤其是在成熟的设计节点中)的重要性。

利用共享技术促进行业进步

SLX系列采用与显示掩模写入器相同的工艺和技术,包括组成原理以及最近推出的Evo控制平台。显示行业采用的尖端掩模刻录机的精度已经完全满足成熟半导体领域的要求。在显示器和半导体掩模制造商之间共享核心技术平台可以最大限度地提高未来和当前技术开发的协同效应,同时最大限度地利用当前的服务组织。

制约因素

安装设备所需投资阻碍市场发展

然而,安装激光掩模刻录机所需的高价格或投资可能会限制激光掩模刻录机市场的增长。此外,激光掩模刻录机日益复杂可能会抑制市场增长。

激光掩模刻录机市场区域见解

行业数量不断增长促进北美市场增长

在预测期内,北美激光掩模刻录机市场份额预计将以最快的复合年增长率增长。产品产量的日益增加和进步导致了平板显示器的制造,这进一步需要激光掩模刻录机的贡献。预计该地区对激光掩模刻录机的需求将急剧上升,并有望推动激光掩模刻录机市场的增长。

主要行业参与者

著名球员行业内推动市场拓展

近年来,该行业的增长受到市场参与者采用的策略(例如扩展)的显着影响。该报告提供了有关公司及其与市场互动的详细信息和信息。这些数据是通过适当的研究、技术进步、扩展和机械和设备的扩展来收集和发布的。该市场考虑的其他标准包括开发和提供新产品的公司、其经营领域、机械化、创新技术、赚最多的钱以及利用其产品产生巨大的社会影响。

顶级激光掩模刻录机公司名单

  • Applied Materials, Inc. (U.S.)
  • Mycronic (Sweden)
  • Heidelberg (Germany)
  • AdvanTools Semiconductor Co.Ltd (China)
  • NanoSystem Solutions,Inc (Japan)
  • Kloé (France)
  • Durham (Canada)
  • MIVA Technologies Gmbh (Germany)
  • SVG Optronics,Co. ,Ltd (China)
  • MIDAS (U.S.)

报告范围

对激光掩模刻录机市场的全面研究可帮助公司所有者、营销人员、利益相关者等买家增加销售额,从而影响预测期内的市场增长。该文件重点关注影响行业增长的重要因素,并包括必要的统计数据和广告价值。此外,报告还讨论了与经济相关的各种政府举措,以帮助主要参与者决定和瞄准潜在客户。尽管如此,市场过去的情况、当前的趋势、客户偏好和即将到来的见解将为公司提供预测时间范围内里程碑的清晰画面。

激光掩模刻录机市场 报告范围和细分

属性 详情

市场规模(以...计)

US$ 0.71 Billion 在 2026

市场规模按...

US$ 1.53 Billion 由 2035

增长率

复合增长率 8.9从% 2026 to 2035

预测期

2026 - 2035

基准年

2025

历史数据可用

是的

区域范围

全球的

涵盖的细分市场

按类型

  • 900mm²/min以上
  • 300 ~ 900mm²/分钟
  • 300mm²/分钟以下

按申请

  • 我知道了
  • 印刷电路板
  • 平板显示器

常见问题

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