극자외선 리소그래피(EUL) 시장 규모, 점유율, 성장 및 유형별(광원, 거울, 마스크 등) 산업 분석, 애플리케이션별(IDM(통합 장치 제조업체) 및 파운드리), 지역 통찰력 및 예측(2026~2035년)

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극자외선 리소그래피(EUL) 시장 개요

전 세계 극자외선 리소그래피(eul) 시장은 2026년 130억 8천만 달러 규모, 2026년부터 2035년까지 연평균 성장률(CAGR) 22%를 유지하면서 2035년까지 783억 2천만 달러에 달합니다.

극자외선 리소그래피(EUL)는 광학 리소그래피 기술입니다. 이는 주로 다양한 전자 장치, 특히 컴퓨터용 집적 회로를 생산하는 스테퍼 및 IC에 사용됩니다. 그들은 극자외선 파장을 사용하여 패턴을 생성합니다.

이러한 파장은 대략 최대 2% 대역폭에 걸쳐 있습니다. 리소그래피 기술은 반도체 소자 제조 공정에 사용됩니다. 최근 이 제품에 대한 수요도 급증했습니다.

시장에서 또 다른 주목할만한 혁신은 가장 발전된 마이크로칩의 가장 미세한 세부 사항까지 찾아낼 수 있는 이 기술의 능력입니다. 이는 최근 시장 동향으로 확인할 수 있습니다.

글로벌 극자외선 리소그래피(EUL) 기술은 주로 대량 생산되는 최첨단 마이크로칩이라고 불리는 매우 효율적인 마이크로칩을 통합합니다. 이 기술은 차세대 핵심 기술 중 하나로 꼽힌다. 뛰어난 패턴 충실도, 더 넓은 프로세스 창 등과 같은 기능이 특징입니다. 이 기술의 성장에는 많은 요인이 기여했습니다.

코로나19 영향

반도체 생산 감소로 시장 성장 둔화

코로나19의 대유행은 세계 경제에 영향을 미쳤다. 봉쇄 조치와 엄격한 사회적 거리두기 규범으로 인해 많은 산업이 폐쇄되었습니다.  글로벌 극자외선 리소그래피(EUL)는 반도체 산업, 특히 장치 제조 과정에서 사용됩니다. 

숙련된 인력의 가용성이 감소하면서 팬데믹 기간 동안 반도체 시장의 운영이 일시적으로 중단되었습니다. 필요한 자원이 부족했고, 공급망의 균형이 유지되지 않았습니다. 반도체 산업이 쇠퇴하면서 글로벌 극자외선 리소그래피(EUL) 시장 점유율도 하락했습니다. 그러나 사물 인터넷 수요로 인해 시장은 대유행 이후 꾸준한 증가를 보였습니다.

최신 트렌드

시장 성장을 높이기 위해 가장 미세한 세부 사항을 찾아내는 능력

글로벌 극자외선 리소그래피(EUL) 기술은 최근 가장 발전된 기술 개발 중 하나입니다. 이는 반사 포토마스크를 자외선에 노출시키는 패턴을 생성하는 데 도움이 되는 약 13.5나노미터의 대역폭을 갖습니다.

이 빛은 기판 표면에 반사됩니다. 기판은 포토레지스트로 덮여 있습니다.  시장에서 또 다른 주목할만한 혁신은 가장 발전된 마이크로칩의 가장 미세한 세부 사항까지 찾아낼 수 있는 이 기술의 능력입니다. 이는 시장의 새로운 트렌드라고 할 수 있습니다.

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극자외선 리소그래피(EUL) 시장 세분화

유형별

시장은 유형에 따라 다음과 같은 세그먼트로 나눌 수 있습니다.

광원, 거울, 마스크, 기타. 광원 부문은 예측 기간 동안 시장을 지배할 것으로 예상됩니다.

애플리케이션 별

적용에 따른 분류는 다음과 같습니다:

통합 장치 제조업체(IDM) 및 파운드리. 통합 장치 제조업체(IDM) 부문은 연구 기간 동안 시장을 지배할 것으로 예상됩니다.

추진 요인

시장 성장을 가속화하기 위해 대량 생산되는 최첨단 마이크로칩 통합

글로벌 극자외선 리소그래피(EUL) 기술은 주로 매우 효율적인 마이크로칩을 통합합니다. 이 칩은 대량 생산되는 최첨단 마이크로칩으로 알려져 있습니다. 이 마이크로칩은 매우 강력합니다. 이것이 주요 추진 요인 중 하나입니다.

EUV 리소그래피는 단일 칩에 더 많은 트랜지스터를 통합할 수 있는 능력을 갖추고 있습니다. 이 칩은 매우 저렴합니다. 그 외에도 그들은 높은 처리 능력을 가지고 있습니다. 이러한 마이크로칩이 소비하는 에너지도 매우 적습니다. 제공되는 성능은 고품질입니다.

시장 성장을 촉진하기 위한 미래 노드로의 확장성

자외선 리소그래피(EUL) 기술은 고도로 처리된 마이크로칩의 통합과 함께 전 세계적으로 수요를 증가시킬 수 있는 많은 기능을 갖추고 있습니다. 이러한 우수한 기능은 글로벌 극자외선 리소그래피(EUL) 시장 성장을 주도합니다.

이 기술은 뛰어난 패턴 충실도를 특징으로 합니다. 또한 더 넓은 프로세스 창을 허용합니다. 또한 미래 노드로 확장될 가능성도 있습니다.  파장도 매우 짧습니다. 30나노미터 정도의 작은 라인을 인쇄하는 데 사용할 수 있습니다. 마이크로 프로세서도 이러한 선도적인 차세대 기술의 도움으로 개발되었습니다.

억제 요인

시장 성장을 억제하기 위한 적절한 포토레지스트 개발의 복잡성

EUL(Extreme Ultraviolet Lithography) 기술은 여러 가지 장점이 있고 매우 발전했지만 단점도 있습니다. 포토레지스트는 이 기술의 주요 구성 요소를 구성합니다. 적절한 포토레지스트를 개발하는 데는 많은 복잡성이 관련되어 있습니다.   

또한, 완벽한 마스크를 형성하는 것도 또 다른 과제이다. 이 리소그래피 기술을 사용하는 데 드는 비용은 높으며 가격은 계속 변동합니다. 이 방법은 ArFi 리소그래피 기술에 비해 더 복잡한 것으로 간주됩니다. 이는 시장 성장을 방해하는 주요 요인이 될 수 있습니다. 

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극자외선 리소그래피(EUL) 시장 지역 통찰력

다가오는 해에 아시아 태평양 지역이 시장을 지배할 것입니다

보고서에 따르면 아시아 태평양 지역은 예측 기간 동안 시장의 지배적인 부분을 차지할 뿐만 아니라 성장할 것으로 예상됩니다. 현재 이 회사는 수익의 4분의 1 이상의 지분을 보유하고 있습니다. 2018년부터 아시아 태평양 지역이 시장을 선도하고 있습니다. 아시아 태평양 시장의 성장에는 여러 가지 이유가 있습니다.

점유율 증가는 중국과 같은 일부 주요 국가에서 EUV 리소그래피 시장이 빠르게 성장하고 있기 때문일 수 있습니다. 특히 이 지역에서는 소형화된 장치에 대한 수요가 이전보다 높아졌습니다. 물 처리 능력이 향상되면서 시장도 성장했습니다. 이러한 모든 요소는 아시아 태평양 지역의 시장 점유율을 종합적으로 증가시키고 있습니다.

주요 산업 플레이어

선도적인 플레이어는 경쟁력을 유지하기 위해 인수 전략을 채택합니다.

시장의 여러 플레이어는 인수 전략을 사용하여 비즈니스 포트폴리오를 구축하고 시장 지위를 강화하고 있습니다. 또한 파트너십과 협업은 기업이 채택하는 일반적인 전략 중 하나입니다. 주요 시장 참가자들은 첨단 기술과 솔루션을 시장에 출시하기 위해 R&D 투자를 하고 있습니다.

최고의 극자외선 리소그래피(Eul) 회사 목록

• ASML (Netherlands)
• Nikon (Japan)
• Canon (Japan)
• Carl Zeiss (Germany)
• Toppan Printing (Japan)
• NTT Advanced Technology (Japan)
• Intel (U.S.)
• Samsung (South Korea)
• SK Hynix (South Korea)
• Toshiba (Japan)
• TSMC (Taiwan)
• Global foundries (U.S.)

보고서 범위

이 보고서는 수요와 공급 측면 모두에서 글로벌 극자외선 리소그래피(EUL) 산업에 대한 통찰력을 제공합니다. 또한 지역별 통찰력과 함께 코로나19가 시장에 미치는 영향, 추진 요인 및 제한 요인에 대한 정보도 제공합니다. 시장 상황을 더 잘 이해하기 위해 예측 기간 동안 시장의 역동적인 힘에 대해서도 논의했습니다. 이 보고서는 이 기술의 미래를 예측하는 데 매우 유용합니다.